第2508章(第2页)

    1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到花旗国4800dsw的水平。这应当是神州第一台分步投影式光刻机，神州在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。




    只可惜进入九十年代后，我国光刻机光源长时间被卡在193纳米无法进步，这个技术非常关键。而且在八十年代，我国和花旗国的关系得到改善，很多过去对我们限制的高科技产品，现在都可以卖给我们了，国外的光刻机产品，性价比远高于自我研发，我国光刻技术的研发和产业化实质上放弃了自主攻关。




    “小林，你关注稀土我能理解，但是光刻机真的有这么重要吗？”




    现在是1998年，武定国提出这个问题并不奇怪。因为在这个时代，高新科技产业还没到集中爆发的时候，各行各业对芯片的要求不是太多，再加上我们还可以从国外进口，很大程度弥补了这个缺陷。




    但林致远是知道前世后期国家因为芯片被卡脖子的严重程度的。发达国家对我国的芯片产业全面封锁，对我国的企业进行限制和制裁。我们造不出高规格的芯片，全面受限，只能花费高昂的外汇去国外购买，每年我国用于芯片的钱高达2.4万亿。