第2508章

    第2508章




    “小林，你再看看光刻机的材料。”武定国看向林致远的眼神更慈祥了。




    林致远拿起那份光刻机的材料，一看，大吃一惊。




    原来我们国家很早以前就开始光刻机的研发了，而且技术水平还不低。




    这超出了林致远前世的认知。




    1965年神州科学院研制出65型接触式光刻机。




    1970年，神州科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。




    1972年，江汉无线电元件三厂编写《光刻掩模版的制造》。




    1977年，我国最早的光刻机-gk-3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机。




    1978年，1445所在gk-3的基础上开发了gk-4，但还是没有摆脱接触式光刻机。




    1980年，青华大学研制第四代分步式投影光刻机获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。




    1981年，神州科学院半导体所研制成功jk-1型半自动接近式光刻机。




    1982年，科学院109厂研制出了khA-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年。