第一一一四章 ASML在纳斯达克上市(第2页)

磁悬浮式双工作台系统技术在18个月的漫长等待后，于1995年2月获得欧美、日本和韩国等国专利局授予的公司发明专利，AsmL同nikon、等光刻机公司几乎同时购买了BseC的公司发明专利，每台支付4000到55000美元不等的专利使用费，相当于每台光刻机售价的1%。

93年8月，gCA同BseC签订了磁悬浮式双工作台系统专利和Arf准分子激光器专利互换协定，gCA不需要支付磁悬浮式双工作台系统的专利使用费。

一台gCA2500B光刻机的市场售价高达600万美元，高端光刻机生产大户gCA占了大便宜。

1995年，BseC收取了磁悬浮式双工作台系统的专利使用费920万美元，相当于7500万元人民币，占了1995年净利润的6成。

1996年，BseC预计将收取1300万美元的专利使用费。前世，AsmL就是依靠双工作台系统和浸没式系统打败了nikon。

如今，购买了BseC的磁悬浮式双工作台系统专利技术，加上BseC的控股股东孙健也是AsmL的第二大股东，AsmL就没有动力继续研发双工作台系统了，集中人力和财力研发更先进的光刻机。

1995年2月，AsmL生产的第一台pAs5500到达三星的工厂里，三星用它开发了一项0.25微米工艺用于生产16mB内存颗粒，不久之后韩国另外一家内存厂商海力士也开始使用pAs5500。

95年3月24日，AsmL公开发行1000万股新股在阿姆斯特丹证交所上市，每股5欧元，孙健因为抽不出时间，余建国代表tiC出席了上市敲钟仪式。

有了近5000万欧元的融资，AsmL如虎添翼，董事会决定，在研发和增长潜力方面继续投入资金，准备在800名员工的基础上再招聘200人，董事会听取孙健的建议，AsmL承诺实施股票期权计划，让所有员工分享公司成长红利。

1996年初，AsmL研发成功250n制程工艺的光刻机，仅落后于gikon的180n制程工艺，超过，处于行业第三位。

AsmL如今总股本8000万股，每股净资产4.55美元，Asm持有1750万股，占股21.88%，为第一大股东；tiC持有1500万股，占股18.75%，为第二大股东；飞利浦持有1250万股，占股15.63%，为第三大股东；蔡司集团持有500万股，占股6.25%，为第四大股东……